一、產品介紹：

CIF推出的CPC系列生產型等離子清洗機是為研發型客戶和工業級客戶而設計的等離子體表面處理設備，配置豐富，且真空腔體里可分層，適合大多數生產場景。適用于等離子清洗，活化以及刻蝕等多種應用，設備可在嚴苛環境下穩定運行，產品性能穩定，樣品處理重復性、一致性好。

二、產品特點：

u 7寸彩色觸摸屏互動操作界面，圖形化用戶操作界面顯示，自動監測工藝參數狀態，0~99個配方程序，可存儲、輸出、追溯工藝數據，機器運行、停止提示。

u PLC工控機控制整個清洗過程，手動、自動兩種工作模式。

u 采用質量流量計，氣體流量控制更準確。標配雙路氣體輸送系統，可選多氣路氣體輸送系統，氣體分配均勻。可輸入氧氣、氬氣、氮氣、四氟化碳、氫氣或混合氣體等氣體。

u 采用花灑式多孔進氣方式，改變傳統等離子清洗機單孔進氣不均勻問題。

u HEPA高效過濾，氣體返填吹掃，防止二次污染。

u 316不銹鋼真空倉，潔凈無污染。

u 全真空管路系統采用316不銹鋼材質。

u 處理高效均勻，效率高，工藝重復性好。

u 合理的結構設計，設備占用空間小。

u 可處理各種材質、形狀、尺寸樣品。

u 樣品處理溫度低，無熱損傷和熱氧化。

u 使用成本低、耗損小。

u 產品性能穩定，安裝與維護，簡便方便。

u 安全保護，倉門打開，自動關閉電源。

三、技術參數

備注：根據用戶要求，可選中頻電源40KHz,功率300-2000W可選。